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• 고에너지 자외선 반도체 인쇄 기술, 高-紫外線半導體印刷技術, Extreme Ultraviolet Lithography, EUVL

  마이크로 칩의 회로 선이 0.1 미크론 이하로 메모리 저장 용량도 1,000배 이상이 되는 마이크로프로세서 제조 기술. 기존의 광 인쇄 기술의 대안으로서 실리콘 웨이퍼(silicon wafer) 위의 카메라 렌즈를 통해 웨이퍼 회로 설계 패턴을 거울에 반사한 자외선 빔을 사용하여 웨이퍼를 인쇄한다.